飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀

Hiden TOF-qSIMS飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀設(shè)計(jì)用于多種材料的表面分析和深度剖析應(yīng)用，包括聚合物，藥物，超導(dǎo)體，半導(dǎo)體，合金，光學(xué)和功能涂層以及電介質(zhì)，檢測(cè)限低于1ppm。

TOF-qSIMS Workstation 包含了四極桿質(zhì)譜和飛行時(shí)間質(zhì)譜。

四極桿qSIMS主要用于摻雜物深度剖析和薄層分析，低入射能力，高入射電流，濺射和分析連續(xù)進(jìn)行，是典型的Dynamic SIMS 動(dòng)態(tài)SIMS。

飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜TOF-SIMS使用飛行時(shí)間質(zhì)譜，質(zhì)量數(shù)范圍寬，質(zhì)量分辨率高，且測(cè)量速度快（瞬間得到全譜）。離子槍僅需要一次脈沖濺射，即可得到全譜，對(duì)表面幾乎無(wú)破壞作用。因脈沖模式分析，且電流小，所以產(chǎn)生的二次離子比率相對(duì)少，靈敏度相比動(dòng)態(tài)SIMS弱，但成像和表面分析能力強(qiáng)，是典型的Stactic SIMS 靜態(tài)SIMS。

TOF-qSIMS飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀綜合了Quadrupole SIMS 和 TOF-SIMS的優(yōu)點(diǎn)，可以分析所有的導(dǎo)體、半導(dǎo)體、絕緣材料；對(duì)硅、高k、硅鍺以及III-V族化合物等復(fù)合材料的薄層提供超淺深度剖析、痕量元素和組分測(cè)量等一系列擴(kuò)展功能。對(duì)于材料/產(chǎn)品表面成分及分布，表面添加組分、雜質(zhì)組分、表面多層結(jié)構(gòu)/鍍膜成分、表面異物殘留（污染物、顆粒物、腐蝕物等）、表面痕量摻雜、表面改性、表面缺陷（劃痕、凸起）等有很好的表征能力。

一臺(tái)SIMS同時(shí)提供四極桿質(zhì)譜和飛行時(shí)間質(zhì)譜：

靜態(tài)SIMS  Static SIMS

動(dòng)態(tài)SIMS  Dynamic SIMS

Ar+, O2+, Cs+, Ga+ 等多種離子槍

樣品 3D成像分析

檢測(cè)限低于ppm

SNMS 離子源，二次中性粒子譜

二次離子質(zhì)譜成像軟件，靜態(tài)二次離子質(zhì)譜圖庫(kù)，二次離子質(zhì)譜后處理軟件

技術(shù)參數(shù)：
質(zhì)量數(shù)范圍：300，510或1000amu
分辨率：5%的谷，兩個(gè)相連的等高峰。
檢測(cè)器：離子計(jì)數(shù)檢測(cè)器，正、負(fù)離子檢測(cè)
檢測(cè)限：1:10E7
質(zhì)量過(guò)濾器：三級(jí)過(guò)濾四極桿（9mm桿）
主離子槍： A，氧離子或其它氣體，能量到5KeV
          B，Ga離子槍，能量25KeV（選配）
空間分辨率：A：100～150um
           B: 50nm
取樣深度：2個(gè)單分子層（靜態(tài)）
         不受限制（動(dòng)態(tài)）


主要特點(diǎn)：
1、高靈敏度脈沖離子計(jì)數(shù)檢測(cè)器，7個(gè)數(shù)量級(jí)的動(dòng)態(tài)范圍
2、SIMS 成像，分辨率在微米以下
3、光柵控制，增強(qiáng)深度分析能力
4、所有能量范圍內(nèi)，離子行程的最小擾動(dòng)，及恒定離子傳輸
5、差式泵3級(jí)過(guò)濾四極桿，質(zhì)量數(shù)范圍至1000amu
6、靈敏度高 / 穩(wěn)定的脈沖離子計(jì)數(shù)檢測(cè)器
7、Penning規(guī)和互鎖裝置可提供過(guò)壓保護(hù)
8、通過(guò)RS232、RS485或Ethernet LAN，軟件 MASsoft控制